半导体加工废水怎么处理方法|半导体加工废水处理案例
項目底色
该芯片二极管封装考试厂在珠三边形中南部,主耍生孩子BGA、QFP等集成设备电路设备芯片二极管封装物料。不断地扩产增大,原来电镀污水加工做处里设备超功率做,且难以有效率加工做处里划分的含氰电镀污水。内容投资费用1200万美元做进行改造,来设计加工做处里程度800吨/日。
污废水 成分表及起源
含氰工业废水:真空电镀多种工序出现,氰化物有机废气浓度30-50mg/L;
高氧化还原电位生产废水:来物理化学镀新工艺,氧化还原电位浓硫酸浓度300-500mg/L;
无机生活污水:打包封装资料拆洗产生了,含改性环氧聚酯树脂聚酯树脂等无机物;
腐蚀性焦化废水:各步骤冲洗水结合而成。
净化处理工艺技术流程图
更新改造后的设计采用了"化学预加工+什么是生化加工+专业腐蚀"新工艺自驾线路:
含氰废渣处理:
偏碱氯化法:分多级破氰,一級空气脱色ORP把握在300-350mV,2级空气脱色ORP>600mV;
一直在线检测系统:随时视频监控余氯和氰化物溶液浓度。
高氧化还原电位废水处里方法处里:
吹脱塔预净化处理:pH调至11,气水比3000:1,挥发酚的还原率70%;
短程活性污泥反应反活性污泥反应:保持DO在0.5mg/L下,合理节省碳源25%。
宗合进行处理系统的:
淀粉水解碱化池:从而提高废水处理可生物化性;
触及钝化池:组合名字弹性填料,气水比15:1;
极有效率发展池:斜管活性炭过滤器,外壁工况1.0m³/(㎡·h)。
层次解决单位:
Fenton空气氧化:H2O2加药系统量200mg/L,Fe²⁺80mg/L;
怪物亲水性炭滤池:进1步洗去COD和碱度。
终结结果
提升后机系统自动正常运作可靠,有水出COD<40mg/L、氧化还原电位<5mg/L、总氰化物<0.2mg/L,一项指标英文相较于位置排放原则原则。吨水外理成本投入从之前的11.3元减至9.3元,年自动正常运作预算节省约56万元。污水带来量极大减少30%,危废处理代理预算相关降。