该晶圆制造商厂是在西北国，核心生產85英寸半导体材料晶圆，日访问量化工废水污染物量约800吨。犹豫生產的过程 中用大批氢氧化钠通过晶圆蚀刻，诱发化工废水面氟化物浓硫酸浓度到达200-300mg/L，远超国污染物标准单位（10mg/L接下来）。 废水处理组成及來源 焦化废水重要原于3个部分： 晶圆蚀刻工艺 ：含高溶度氟化物（HF）、硝酸钠及极少量巨资属 生物学自动化设备cnc精密机械加工（CMP）生活污水 ：含奈米级硅颗粒状、有机的络合剂 设备家电清洗生产废水 ：含异丙醇、挥发酚等有机酸物 进行处理加工步奏 选择"电化学凝固+沥青混凝土凝固+深度的进行过滤"两级处理机系统： 一級处里 ：污泥脱水氯化钙和氢硫化钙，养成氟化钙沉积，氟化物消除率达85% 特殊工作 ：加入PAC（整合氯化铝）和PAM（聚乙烯塑料酰胺），避开固体态污染问题物 二级治理 ：完成多导电介质过滤系统器和活性酶类炭吸附性，出水量氟化物酸度稳定的在8mg/L下述 关键的机 包涵：pH主动调理设备、斜管结晶池、板框废水压滤机（废水脱水等）。 终究效率 顶目运动三年期监测站统计数据信息显示： 氟化物最低值质量浓度：7.2mg/L（高于政府细则） COD出掉率：92% 工业废水含水量率：≤65% 年回报氟化钙副企业产品约150吨，保证资源性化通过