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半导体芯片加工废水怎么处理|半导体芯片加工废水如何处理

工程视频背景 该半导体器件商家建在长四角中北部,通常分娩8寸大和12寸大晶圆,日释放废排水量约2000吨。随着分娩工艺设备复杂性,废水里含有多种不同难光降解有机的物和血本属亚铁离子,常用净化处理工艺难足够急剧严谨的释放规范标准。 废污水成分表及来原 生活污水处理大部分由来于七个关键点:晶圆锯开器生活污水处理所含许多硅粉和锯开器液剩余的;电化学自动化抛光处理生活污水处理具有氢氧化铁硅和研磨机小粒;刻蚀清理生活污水处理所含氟化物、铜铝离子等高价属;光刻制作工艺生活污水处理则所含光阻剂等有机化学感染物。地表水显著特点是COD高(800-1500mg/L)、氟化物酸度高(200-400mg/L)、飘浮物多且所含进样器高价属。 治理 方法具体步骤 通过"物理化学预处置+生化学处置+角度处置"的组合名字施工工艺: 上下调整池均衡教育水的硬度需水量 混凝土放置消除悬浮按钮物和氢氧化铁化学物质 生物学奠定法帮着正确处理氟化物,加药钙盐转变成氟化钙奠定 油脂水解过酸池提高自己污水可血生化性 接处氧化的池吸附巧妙影响物 离心分离性炭离心分离塔做好长度净化处理 膜分离处理体系保障满水后水的硬度相对稳定 专门针对含铜电镀废水直接设制铝离子对换软件系统,收售有交换价值的金属材质铜。 结果是感觉 建设项目建设完工后作业安全稳定,留水COD<50mg/L,氟化物氧化还原电位值<5mg/L,铜阳离子氧化还原电位值<0.3mg/L,基本技术指标均相较于一个国家《电商制造业水水学习环境有害特性排卸标准单位》(GB 39731-2020)。年均可削减COD排卸约300吨,氟化物排卸约50吨,收集铜材料约2吨,保证 了学习环境利润与城市发展利润的互赢。

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