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半导体含氟废水怎么处理方法|半导体含氟废水处理案例

项目流程蓝本 该企业公司专注研发半导体芯片用高纯氟化氢和六氟化钨,污水氟溶液浓度很好且化学物质繁杂。应有处里方法郊果不稳固,氟化物污染物时不时偏高。开发项目投入2五百万元开发特意处里配套设施,制作处里的能力500吨/天。 污水因素及源头 工业废水主要基产生机械设备清洁和烟气洗衣: 氟铁离子盐浓度:1500-3500mg/L 含硝酸钠根化合物:2000-5000mg/L pH值:1- 含轻微钨、钼等五金要素 除理鑫霖环保操作流程 专门针对高溶度特别,适用"中合+联级沉定+膜加工"加工: 电镀废水处理抽取池:几大类抽取多种渗透压电镀废水处理 采和反馈池:分关键期污泥脱水氢阳极阳极氧化钠和氢阳极阳极氧化钙,调整然后pH至7.5-8. 二沉池的反应池:加药系统PAC和PAM加强乳浊液郊果 斜管凝固池:效率固液分离法 多媒质筛选器:祛除狗狗细小病毒粒子 反进行渗透系统:强度脱盐和除氟 活性生活污水精浓脱水烘干现象软件系统:离心法脱水烘干现象后活性生活污水土石方技术专业治理 再线监测设备设备:实时交通远程监控氟阴阳离子氧化还原电位和pH值 然后的效果 治理整体加载数据显示: 渗水氟阴阳离子平均值密度:2800mg/L 有水出氟化合物有机废气浓度:3.2mg/L(平均的) 氟除掉率:99.9%上述 水回收率:达到了65% 设备深圳自动化化能力高,满足废水净化处理工艺净化处理的成本降低30%,年收旧氟化钙副产的约400吨。

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